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氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有電阻式和電子束
- 分類:技術支持
- 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源:低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間:2021-11-13
- 訪問量:
【概要描述】氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有電阻式和電子束: ? ? ? ?蒸鍍的原材料可以是非金屬的,可以是SiOX.SiO2或Al2O3.MgO.Y2O3.TiO2.Gd2O3等其它氧化物,而SiOX.AlOx常用。氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有兩種:電阻式和電子束式。電阻式汽化源根據電阻加熱的原理加熱蒸鍍原料,高加熱溫度可達1700℃。電子束蒸發源由加速電子碰撞蒸鍍原料汽化。蒸發器配備了電子槍,通過磁場或電場對電子束進行加速聚集,使其集中于汽化物質的局部位置,形成加熱束斑。光束斑點溫度達到3000~6000℃,能量密度達到20kW/cm2。 ? ? ? ?在非金屬涂層中,汽化原料的高氣化溫度和汽化會導致汽化過程中汽化區域的高溫,大量的輻射熱使基材吸收過多的熱能,提高溫度;同時,氣化分子、離子等顆粒在基材表面凝結成膜時釋放的熱量導致基材溫度過高,熱變形嚴重。高溫變形后,基材起皺,導致涂層不均勻或斷裂,不能改善涂層的阻隔性。結果表明,軟化點和熔點低的塑料膜汽化效果不好。實驗表明,只有PP.PET.PA等材料才能更適合氧化物涂層加工??梢钥隙ǖ卣f,plasma等離子處理技術是改善各種塑料薄膜表面性能和功能的好方法。經plasma等離子處理后,膜表面可明顯增大,其潤濕性能和粘接性能得到改善。 ?
氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有電阻式和電子束
【概要描述】氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有電阻式和電子束:
? ? ? ?蒸鍍的原材料可以是非金屬的,可以是SiOX.SiO2或Al2O3.MgO.Y2O3.TiO2.Gd2O3等其它氧化物,而SiOX.AlOx常用。氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有兩種:電阻式和電子束式。電阻式汽化源根據電阻加熱的原理加熱蒸鍍原料,高加熱溫度可達1700℃。電子束蒸發源由加速電子碰撞蒸鍍原料汽化。蒸發器配備了電子槍,通過磁場或電場對電子束進行加速聚集,使其集中于汽化物質的局部位置,形成加熱束斑。光束斑點溫度達到3000~6000℃,能量密度達到20kW/cm2。
? ? ? ?在非金屬涂層中,汽化原料的高氣化溫度和汽化會導致汽化過程中汽化區域的高溫,大量的輻射熱使基材吸收過多的熱能,提高溫度;同時,氣化分子、離子等顆粒在基材表面凝結成膜時釋放的熱量導致基材溫度過高,熱變形嚴重。高溫變形后,基材起皺,導致涂層不均勻或斷裂,不能改善涂層的阻隔性。結果表明,軟化點和熔點低的塑料膜汽化效果不好。實驗表明,只有PP.PET.PA等材料才能更適合氧化物涂層加工??梢钥隙ǖ卣f,plasma等離子處理技術是改善各種塑料薄膜表面性能和功能的好方法。經plasma等離子處理后,膜表面可明顯增大,其潤濕性能和粘接性能得到改善。
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- 分類:技術支持
- 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源:低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間:2021-11-13 11:40
- 訪問量:
氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有電阻式和電子束:
蒸鍍的原材料可以是非金屬的,可以是SiOX.SiO2或Al2O3.MgO.Y2O3.TiO2.Gd2O3等其它氧化物,而SiOX.AlOx常用。氧化物plasma等離子處理鍍膜的汽化源有兩種:電阻式和電子束式。電阻式汽化源根據電阻加熱的原理加熱蒸鍍原料,高加熱溫度可達1700℃。電子束蒸發源由加速電子碰撞蒸鍍原料汽化。蒸發器配備了電子槍,通過磁場或電場對電子束進行加速聚集,使其集中于汽化物質的局部位置,形成加熱束斑。光束斑點溫度達到3000~6000℃,能量密度達到20kW/cm2。
在非金屬涂層中,汽化原料的高氣化溫度和汽化會導致汽化過程中汽化區域的高溫,大量的輻射熱使基材吸收過多的熱能,提高溫度;同時,氣化分子、離子等顆粒在基材表面凝結成膜時釋放的熱量導致基材溫度過高,熱變形嚴重。高溫變形后,基材起皺,導致涂層不均勻或斷裂,不能改善涂層的阻隔性。結果表明,軟化點和熔點低的塑料膜汽化效果不好。實驗表明,只有PP.PET.PA等材料才能更適合氧化物涂層加工??梢钥隙ǖ卣f,plasma等離子處理技術是改善各種塑料薄膜表面性能和功能的好方法。經plasma等離子處理后,膜表面可明顯增大,其潤濕性能和粘接性能得到改善。
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